Cadence宣布使用ARM和IBM工艺技术流片14纳米测试芯片
Cadence宣布使用ARM和IBM工艺技术流片14纳米测试芯片
Cadence宣布使用ARM和IBM工艺技术流片14纳米测试芯片
中山芯片设计,芯片设计第一,国产芯片创新 设计系统公司(NASDAQ: CDNS),日前宣布流片了一款14纳米测试Cortex-M0处理器。这次成功流片是三家技术领先企业紧密合作的结果,他们一起建立了一个产品体系,解决基于14纳米FinFET的设计流程中内在的从设计到生产的过程中出现的新挑战。
中山芯片设计,芯片设计第一,国产芯片创新该14纳米产品体系与芯片ARMCadenceIBM之间在14纳米及以上高级工艺节点上开发系统级芯片(SoC)多年努力的重要里程碑。使用FinFET技术以14纳米标准设计的SoC能够大幅降低功耗。
“这款芯片代表了高级节点工艺技术的重要里程碑,通过三家公司多名专家的密切合作实现,”Cadence硅实现部门高级副总裁Chi-Ping Hsu说,“FinFET设计为设计者们带来了巨大的优势,不过也需要高级晶圆厂的支持,还有IP与EDA技术,以应对诸多挑战。Cadence、IBMARM合作解决这些难点,并开发了一个产品体系,能够支持多样化产品设计的14纳米FinFET开发。”
该芯片是设计用于检验14纳米设计基础IP的建构模块。除了ARM处理器外,SRAM存储器模块和其他模块也包含其中,提供了基于FinFET的ARM Artisan?物理IP的基础IP开发所需的描述数据。
“每次进入更小的工艺节点都会出现新的挑战,需要SoC设计产业链上的行业领袖们深入合作,”ARM物理IP部门副总裁兼总经理 Dipesh Patel说,“在14纳米设计中,很多围绕FinFET的挑战,以及我们和Cadence与IBM的合作,主要都在于结局如何让14纳米FinFET设计更可靠而有经济可行性。”
“此14纳米测试芯片的流片是我们用FinFET在SOI上利用其内置电解质隔离法获得的重大进展,”IBM半导体研发中心副总裁Gary Patton说,“实际上,Cadence与ARM已经在设计解决方案上进行合作,成功实现了这块基于IBM FinFET技术的测试芯片的流片。我们将继续合作,在14纳米及以上工艺全面应用的SOI FinFET设备中实现卓越的功耗、性能与多样性控制。”
相关文章
- DNA存储技术跨越时代设计芯片教程
- 全球智能汽车产业峰会在合肥举行 十个优质项目落户高新区
- 芯片制造专业书籍泰国芯片翻新
- HPC高速发展给芯片开发带来哪些挑战CHPC全系列解决方案
- 指纹识别原理和万能指纹攻击猜想硬创公开课 原创
- Top20高分项目文章集锦
- 海沧区全力推进重点项目 临港鼎美高中计划明年投用
- Arm“断供”不实:国内合作不受影响 持续扩展Neoverse生态
- 搬家去美国!台积电变“美积电”伤害了谁?
- 芯片短缺影响200万辆产能 汽车业联合攻坚“卡脖子”难题
- 对标AMD、Inte-!中国首个小芯片标准发布
- 国芯科技获155家机构调研:公司基于RISC-VCPU的安全芯片去年已经有小批量量产(附调研问答)
- 涨停雷达:芯片个股异动 中化岩土触及涨停
- 2022年底购机建议:若预算充足建议一次到位选这4款高端手机
- 这次战斗没有成功算是一次伟大的尝试吧没有失败哪里来的成功 片花
- 第201期MAX7221LED驱动芯片详细讲解及仿真电路图、程序的讲解
- 全球前3大无晶圆厂芯片设计师:高通英伟达继续位居榜首
- A股申购|天德钰(688252SH)开启申购 专注于移动智能终端领域的整合型单芯片的研发、设计、销售
- 设计一颗2nm芯片至少要725亿美元
- 三未信安:客户资源优质数量快速增长 核心技术国内领先凸显创新能力