适配多种光刻机！国产芯片设备取得新突破

适配多种光刻机！国产芯片设备取得新突破

　　适配多种光刻机！国产芯片设备取得新突破

国产clk芯片,手机芯片中国造,大国机修 芯片　　自从10月份美方发布最严芯片新规后，近段时间一直在向荷兰和日本方面施压，希望他们一起跟随实施限制，以使新规能够达到足够的威力，对我们实施全方位限制。

　　国产clk芯片,手机芯片中国造,大国机修 芯片美方之所以这样做，主要是因为美企只是部分芯片设备先进，荷企和日企某些方面更加先进，比如光刻机。但这也阻挡不了我们前进，近日国产芯片设备取得新突破！

　　从全球前十大半导体设备厂商来看，美企占3家，其中应用材料第一、泛林集团第三、科磊第五。美方之所以能够对我们实施出口管制，主要就是因为这三大设备巨头。

　　应用材料的业务几乎贯穿整个半导体工艺制程，涉及薄膜沉积、离子注入、刻蚀、热处理、清洗、测量检测等设备。泛林集团主营刻蚀、薄膜沉积以及清洗等设备。

　　泛林集团在刻蚀机市场占据半壁江山，科磊是工艺制程检测量测设备的绝对龙头。

　　美企这三大半导体设备巨头在大陆的市场份额都不小，营收的30%左右来自中企，中芯国际等国内晶圆制造商的很多设备就来自于他们，所以才会受到出口新规限制。

　　另外，荷兰企业占两家，全球最出名的光刻机巨头ASML排名第二，ASMI排第九。

　　日企最多占了5家，排名第4、6、7、8、10，其中东京电子是日本最大的半导体设备商，主营涂胶显像、热处理、干法刻蚀、化学气相沉积、湿法清洗及测试等设备。

　　美企三大设备巨头虽然厉害，但并不是所有设备都领先，比如光刻机就做不了，另外有些设备荷企、日企也能做，所以才会施压荷兰、日本，希望他们一起实施新规。

　　近日消息传来，荷兰和日本方面已经和美方初步达成了协议，计划一起跟随限制。

　　芯片制造按顺序需要八大类设备：扩散炉-光刻机-涂胶显影机-刻蚀机-离子注入机-薄膜沉积设备-化学机械抛光机-清洗机。要实现芯片自主，设备必须实现国产突围。

　　这些芯片设备每一个都非常重要，虽然光刻机是其中最重要的设备，我们相对关注较多，但其他设备哪个也少不了，少哪一个芯片也做不出来，所以都必须引起重视。

　　尽管芯片制造设备我们主要依赖国外，但其实每一个环节的设备都有国产在做，只是精度上面还有差距，比如光刻机才到90nm，不过蚀刻机已经做到了全球领先水平。

　　近日，国产芯片设备又取得新突破，第三代前道浸没式高产能涂胶显影机正式发布！

　　涂胶显影机主要起什么作用呢？涂胶显影设备主要用于在光刻工序中，和光刻机配套使用，主要作用是涂胶、烘烤和显影，能够直接影响光刻工序中曝光图案的形成。

　　涂胶显影设备决定着光刻过程中曝光图案形成的好坏，所以该设备重要性也很关键。

　　然而，涂胶显影设备市场集中度较高，上边提到的日企东京电子在全球市场占有率高达88%，在国内涂胶显影设备市场占比达到90%，和日本迪恩士一起占到96%。

　　国内企业芯源微虽然仅占据了剩下4%的市场份额，但也打破了国外企业在涂胶显影设备市场的垄断。近日，芯源微召开了国产浸没式高产能涂胶显影机新品发布会。

　　该款设备能匹配全球主流光刻机联机生产，通过选配可全面覆盖I-line、KrF、ArFdry、ArF浸没式等多种光刻技术。这是芯源微自主开发的第三代机型，具备多种优势。

　　目前，该款机型已通过客户端验证，达到客户量产要求，预计明年可实现批量生产。

　　涂胶显影机在国外卡脖子的芯片制造设备中，严重程度仅次于光刻机，比蚀刻机卡的还严重。原来蚀刻机卡的也很严重，后来中微半导体实现了突破，才不卡脖子了。

　　如今，国产涂胶显影机成功打破国外垄断，填补了国内空白，但仍需要向高端机型发展。可见，国外限制根本阻挡不了我们前进，相信还会有更多国产设备实现突破！